主要产品

主要产品

溅射靶材
铬靶
      公司生产的铬靶材采用先进的热等静压工艺生产,产品包括平面靶 、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有纯度和密度可控、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。


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铬管靶材

      公司研制的热等静压大长径比整体成形铬管靶材具有自主知识产权, 已获得授权国防专利一项,申请发明专利一项,专利201510762127.1。 热等静压大长径比整体成形铬管靶材与喷涂铬管靶材相比,具有氧含量低、 镀膜均匀致密连续性好等优点。目前热等静压大长径比整体成形铬管靶材 已成功应用于苹果、三星等公司产品,并实现出口韩国、英国、美国等国家和地区。
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钛铝靶

      公司生产的钛铝靶材采用先进的真空热压、热等静压工艺生产,产品 包括平面靶、圆弧靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有成分比例范围宽(铝含量为10at%~90at%)、纯度和密度高、晶粒细小均匀、使用寿 命长等优点。钛铝靶材典型的成分比例有33:67at%、50:50at%x 70:30at%等,也可按照客户要求定制Ti-AI-X(X=Si、Cr、Y、B s V)等特殊成分和规格靶材。

公司研制的热等静压大长径比整体成形钛铝管靶材具有自主知识 产权,已获得授权发明专利一项,专利号201310018789.9。
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铬铝靶
      公司生产的铬铝靶材采用先进的热等静压工艺生产,产品包括平面靶、圆弧靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有成分比例范围宽(铝含量为10at%~90at% )、纯度和密度高、晶粒细小均匀、使用寿命长 点。钛铝靶材典型的成分比例有 30:70at%、50:50at% 等,也可按照客户要求定制Cr-AI-x(x = Si、T i、Y、B、V)等殊成分和规格靶材。

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钛硅靶

      公司生产的钛硅靶材采用先进的热等静压工艺生产,产品包括平面靶、圆弧靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有成分比例范围宽(硅含量为10at%〜30at% )、纯度和密度高、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。钛硅靶材典型的成分比例有85:15at%、80:20at%、75:25at%、 70:30at%等,也可按照客户要求定制靶材成分和规格。
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硅铝靶

      公司生产的硅铝靶材采用先进的热等静压工艺和真空等离子喷涂, 产品包括平面靶、圆弧靶和管靶等类型,具有成分比例范围宽(铝含量为10at%〜90at%)、纯度和密度高、晶粒细小均勾、使用寿命长等优点。硅铝靶材典型的成分比例有90:10wt%、70:30wt%等,也可按照客要求定制特殊成分和规格靶材。

      热等静压硅铝合金靶材具有自主知识产权,已申请发明专利一项,专 利号201610402544.X。

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钼铌靶

     公司生产的钼铌靶材采用先进的热等静压工艺生产,产品包括平面靶、圆弧靶和管靶等类型,具有纯度和密度高、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。钼铌靶材典型的成分比例有90:10wt%、95:5wt%等,也可按照客户要求定制特殊成分和规格靶材。
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氧化铌靶

      公司生产的氧化铌靶材采用先进的真空热压、热等静压和真空等离子 喷涂,产品包括平面靶、圆弧靶和管靶等类型。热等静压氧化铌靶材具有自主知识产权,已申请发明专利一项,专利号201610183421.1。
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硅靶

      公司生产的硅靶产品包括平面靶和管靶等类型。
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陶瓷靶

      公司可采用真空热压及热等静压生产高性能陶瓷靶材产品。
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难熔金属及高温合金制品

      公司项目部主要利用冷等静压机、模压机、氢气烧结炉、热等静压机 等设备生产难熔合金产品,主要包括:WC喷嘴、铼坩埚、钴基WC-不锈钢双金属螺杆等产品。

      公司拥有成熟的粉末冶金技术,已建立起完整的粉末冶金材料制备工 艺,形成了高纯高质量球形预合金粉末制备、粉末处理、烧结、冷等静压、 热等静压、热处理及检测一条龙的生产能力。掌握了粉末冶金近净成形技术,已研制出多种高性能、无缺陷的粉末冶金产品及其复合构件产品,已 成功应用于航空航天等多个领域。

      钴基高温合金双螺杆构件是塑料挤出机的核心关键部件,耐磨寿命是 6542高速钢的3.5倍以上,耐腐蚀寿命是5倍以上;界面结合强度大于 100MPa。
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粉末钛合金复杂结构件
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高性能钛合金粉末

      公司拥有国内领先的等离子旋转电极雾化制粉设备,可用于制备氧 含量低、球形度好、粉末粒度在50-15μm的高性能合金粉末。目前,主要产品包括高纯钛粉、钛合金粉、镍基高温合金粉末等,高性能球形合S D打印制品、高推重比航空发动机涡轮盘、压气机盘等 高温转动部件的原材料,还用于制造航天飞行器、火箭发动机、核反应堆、石油化工设备以及煤的转化等能源转换装置。
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